退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進(jìn)入晶圓襯底。退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，或者可以自己處理。

　　退火爐是由專門為加熱半導(dǎo)體晶片而設(shè)計的設(shè)備完成的。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐，超節(jié)能結(jié)構(gòu)，采用纖維結(jié)構(gòu)，節(jié)電60%。

　　罩式退火爐主要用于在自然氣氛中進(jìn)行薄板材退火以及鋼件的正火處理。1、特殊鋼、精密合金、大型全纖維臺車式電阻爐說明帶材、線材的光亮退火。2、特殊鋼鑄、鍛件的退火。3、硅鋼片成品退火。4、金屬、非金屬粉末壓制作件的燒結(jié)等。